每经AI快讯，有投资者在投资者互动平台提问：在集成电路制造过程中不同抛光环节的抛光模块需要应对不同的介质，请问公司抛光模块能够应用的介质层包含哪些？

格隆汇12月23日丨 华海清科 (688120.SH)在互动平台表示， 公司CMP装备包含清洗模块，清洗技术均为公司自主研发，基于公司在此领域的技术积淀和集成电路客户需求，公司积极开展清洗装备的研发工作，主要面向材料端的终端清洗市场需求。公司自主研发的清洗装备已批量用于公司晶圆再生生产，应用于4/6/8英寸化合物半导体的刷片清洗装备和12英寸单片终端清洗机已实现首台验收，清洗产品进展顺利。

在当今环保意识逐渐增强的社会背景下，传统清洗液的腐蚀性及其对环境的影响问题日益受到重视。大连奥首科技此次申请的清洗液，因其不具有腐蚀性，适合在无超声波工艺条件下进行清洗，真正做到了环保与高效的统一。

周三，BMO Capital Markets调整了对Compass Minerals International (NYSE:CMP)的展望，将公司的目标价从20.00美元下调至18.00美元，同时维持对该股票的"市场表现"评级。 这一调整是在公司发布了2024财年（截至9月）延迟的第四季度财务业绩之后做出的。公司市值为5.446亿美元，股价接近13.14美元，过去一年股价下跌超过50%。根据 ...