每经AI快讯，有投资者在投资者互动平台提问：在集成电路制造过程中不同抛光环节的抛光模块需要应对不同的介质，请问公司抛光模块能够应用的介质层包含哪些？

格隆汇12月23日丨 华海清科 (688120.SH)在互动平台表示， 公司CMP装备包含清洗模块，清洗技术均为公司自主研发，基于公司在此领域的技术积淀和集成电路客户需求，公司积极开展清洗装备的研发工作，主要面向材料端的终端清洗市场需求。公司自主研发的清洗装备已批量用于公司晶圆再生生产，应用于4/6/8英寸化合物半导体的刷片清洗装备和12英寸单片终端清洗机已实现首台验收，清洗产品进展顺利。

在当今环保意识逐渐增强的社会背景下，传统清洗液的腐蚀性及其对环境的影响问题日益受到重视。大连奥首科技此次申请的清洗液，因其不具有腐蚀性，适合在无超声波工艺条件下进行清洗，真正做到了环保与高效的统一。

根据AI大模型测算华海清科后市走势。短期趋势看，该股当前无连续增减仓现象，主力趋势不明显。主力没有控盘。中期趋势方面，下方累积一定获利筹码。近期筹码减仓，但减仓程度减缓。舆情分析来看，10家机构预测目标均价233.21，高于当前价31.70%。目前市场情绪悲观。 1、2022年年报：报告期内，公司CMP设备在逻辑芯片、DRAM存储芯片、3D ...

10:47【华海清科：目前评估下来没有太多实质性影响，核心零部件大部分已经实现自主可控】华海清科回应美国发布新一轮实体清单名单，第一财经 ...

证券之星消息，截至2024年12月2日收盘，瑞泰科技(002066)报收于12.64元，上涨10.01%，涨停，换手率4.53%，成交量10.46万手，成交额1 ...